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  • 氧離子助鍍包裝產(chǎn)品使用的絕緣膜方鋁管
  • 2019/9/29 閱讀次數(shù):[397]
  • 氧離子助鍍(IAD)SiO包裝產(chǎn)品使用的絕緣膜方鋁管

    SiO2薄膜如果壓力過大,薄膜將有氣氧離子助鍍包裝產(chǎn)品使用的絕緣膜方鋁管孔并且易碎,相反壓力過低薄膜將有吸收并且折射率變大,需要充分提供高能離子或氧離子以便得到合乎需要的速度和特性,必要是需要氧隨方鋁管基板的溫度的改變而改變的.在室溫中蒸鍍,MGF2膜層通常被手指擦傷,具有比較高的濕度變化.在真空中大約N=1.32,堆積密度82%,使用300(℃)蒸鍍,其堆積密度將達(dá)到98%,N=1.39它的膜層能通過消除裝置的擦傷測(cè)試并且溫度變化低,在室溫與300(℃)之間,折射率與密度的變化幾乎成正比例的. 在玻璃上冷鍍MGF2加以IAD助鍍可以得到300(℃)同等的薄膜,但是125-150EV能方鋁管量蒸鍍可是最適合的.在塑料上使用IAD蒸鍍幾乎強(qiáng)制獲得合理的附著力與硬度.經(jīng)驗(yàn)是MGF2不能與離子碰撞過于劇烈.氣和氬氣混合充氣,但是這是熱鍍的情況,冷鍍時(shí)這種性況不存在. 氧離子助鍍包裝產(chǎn)品使用的絕緣膜方鋁管


    SiO2用于防反膜,冷光膜,濾光片,絕緣膜,眼鏡膜,紫外膜. 方鋁管


    透光范圍(nm) 折射率(N) 550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量


    200--2000 1.46 1800-2200 電子槍,防反膜,增氧離子助鍍包裝產(chǎn)品使用的絕緣膜方鋁管透 少,升華


     

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